Файл:OpcedPhotomask.png
Розмір при попередньому перегляді: 600 × 599 пікселів. Інші роздільності: 240 × 240 пікселів | 480 × 480 пікселів | 769 × 768 пікселів | 1025 × 1024 пікселів | 2079 × 2077 пікселів.
Повна роздільність (2079 × 2077 пікселів, розмір файлу: 40 КБ, MIME-тип: image/png)
Історія файлу
Клацніть на дату/час, щоб переглянути, як тоді виглядав файл.
Дата/час | Мініатюра | Розмір об'єкта | Користувач | Коментар | |
---|---|---|---|---|---|
поточний | 18:50, 11 лютого 2011 | 2079 × 2077 (40 КБ) | LithoGuy | {{Information |Description ={{en|1=A realistic photomask. It is obtained by taking a polygon layout we desire to have on the wafer, adding to it assist features, and applying en:optical proximity correction.}} |Source ={{own}} |Author |
Використання файлу
Така сторінка використовує цей файл:
Глобальне використання файлу
Цей файл використовують такі інші вікі:
- Використання в en.wikipedia.org
- Використання в kk.wikipedia.org