Власний напівпровідник: відмінності між версіями

[неперевірена версія][неперевірена версія]
Вилучено вміст Додано вміст
Немає опису редагування
орфографія, стилістика
Рядок 1:
'''Власний напівпровідник''' - [[напівпровідник]] з дуже малою концентрацією домішок.
 
У власному напівпровіднику кількість [[електрон провідності|електронів]] у [[зона провідності|зоні провідності]] співпадаєзбігається з кількістю [[дірка (квазічастинка)|дірок]]
у валентній зоні й визначається в основному шириною [[заборонена зона|забороненої зони]].
 
Рядок 11:
==Концентрація носіїв заряду==
У власному напівпровіднику носіями заряду є [[електрон провідності|електрони провідності]] й [[дірка (квазічастинка)|дірки]], які створюються
за рахунок теплового збудження кристалу із переходом електрона з валентної зони в зону провіднстіпровідності. Концентрація носіїв заряду залежить
від температури й від таких характеристик напівпровідника, як ширина забороненої зони й ефективні густині станів у зоні провідності й валентній зоні.
:<math> n = N_C e^{(\mu - E_C)/k_B T} </math>,