Вакуумне напилення: відмінності між версіями
| [перевірена версія] | [перевірена версія] |
Вилучено вміст Додано вміст
стильові правлення |
Shkod (обговорення | внесок) Немає опису редагування |
||
Рядок 2:
[[Файл: Coating deposition machine by evaporation at LAAS 0473.jpg|thumb|250px|Установка вакуумного напилення]]
[[Файл: TiNCoatedPunches_NanoShieldPVD_Thailand.JPG|thumb|250px|Деталі з покриттям з нітриду титану, отриманим вакуумним напиленням з електродуговим нагріванням]]
'''Ва́куумне напи́лення''' або '''конденсаційний спосіб нанесення покриття''' ({{lang-en|physical vapour deposition, PVD}} — напилення конденсацією з парової (газової) фази) — група методів напилення [[Покриття поверхні|покриттів]] (тонких плівок) у [[вакуум]]і, при яких покриття отримується шляхом прямої [[конденсація|конденсації]] [[пара|пари]] матеріалу, що наноситься<ref>ДСТУ 2491-94 Покриття металеві та неметалеві неорганічні. Терміни та визначення.</ref>.
З використанням методів вакуумного напилення отримують покриття товщиною від декількох [[ангстрем]] до декількох [[мікрон]]ів, зазвичай після нанесення покриття поверхня не потребує додаткового оброблення.
| |||