Повна роздільність(SVG-файл, номінально 150 × 150 пікселів, розмір файлу: 13 КБ)

Wikimedia Commons logo Відомості про цей файл містяться на Вікісховищі — централізованому сховищі вільних файлів мультимедіа для використання у проектах Фонду Вікімедіа.

Опис файлу

Опис

Wafer flats convention, based on Image:Wafer flats convention.PNG

Conventional meaning of flats in semiconductor wafers. Red denotes material that has been removed.

Wafer orientation is the orientation of the crystallographic plane in which the crystal grew. Wafer type indicated the type of doping.
Primary flat - indicates crystallographic planes of high symmetry (usually the {110} face).
Secondary flat - it's position relative to Primary flat or it's absence is indicating the doping type and the orientation of wafer.

  • Absence - p {111}
  • 90° - p {100}
  • 180° - n {100}
  • 45° - n {111}
Wafers under 200mm generally have flats indicating crystallographic planes of high symmetry (usually the {110} face) and, in old-fashined wafers (those below about 100mm diameter), the wafer's orientation and doping type. Modern wafers use a notch to convey this information, in order to waste less material. Orientation is important for wafer cleavage, and can affect other structural and electronic properties as well.
Час створення
Джерело

self-made,

 
Це векторне зображення було створено з допомогою Inkscape .
Автор Twisp
Інші версії Wafer flats convention.PNG

Ліцензування

Public domain Я, власник авторських прав на цю роботу, передаю роботу в суспільне надбання. Застосовується по всьому світу.
У деяких країнах це не може бути юридично можливо, в такому випадку:
Я даю кожному право на використання цієї роботи для будь-яких цілей, без будь-яких умов, якщо такі умови не вимагаються за законом.

Підписи

Додайте однорядкове пояснення, що саме репрезентує цей файл

Об'єкти, показані на цьому файлі

зображує

Історія файлу

Клацніть на дату/час, щоб переглянути, як тоді виглядав файл.

Дата/часМініатюраРозмір об'єктаКористувачКоментар
поточний21:40, 24 вересня 2013Мініатюра для версії від 21:40, 24 вересня 2013150 × 150 (13 КБ)Cepheidenfixed position of secondary flat Silicon processing for the VLSI era - Vol. 1 - Process technology; S Wolf; RN Tauber - Lattice Press; 1986; ISBN 096167237; p. 23
00:37, 23 грудня 2008Мініатюра для версії від 00:37, 23 грудня 2008150 × 150 (13 КБ)InductiveloadAdded arrow indication <110> direction and enlarged flats so they can be easily seen
21:17, 29 лютого 2008Мініатюра для версії від 21:17, 29 лютого 2008150 × 150 (9 КБ)Twisp
21:13, 29 лютого 2008Мініатюра для версії від 21:13, 29 лютого 2008150 × 150 (9 КБ)Twisp
21:06, 29 лютого 2008Мініатюра для версії від 21:06, 29 лютого 2008150 × 150 (8 КБ)Twisp
20:59, 29 лютого 2008Мініатюра для версії від 20:59, 29 лютого 2008150 × 150 (8 КБ)Twisp
18:09, 29 лютого 2008Мініатюра для версії від 18:09, 29 лютого 2008150 × 150 (9 КБ)Twisp{{Information |Description= Wafer flats convention, based on Image:Wafer flats convention.PNG Conventional meaning of ''flats'' in semiconductor wafers. Black denotes material that has been removed. Wafer orientation is

Така сторінка використовує цей файл:

Глобальне використання файлу

Цей файл використовують такі інші вікі:

Метадані